連續(xù)線式磁控濺射真空鍍膜設(shè)備

設(shè)備特點(diǎn)：
1.設(shè)備采用真空磁控濺射技術(shù)，孿生陰極，中頻濺射技術(shù)，并配以先進(jìn)的控制系統(tǒng) 。
2.生產(chǎn)過(guò)程全部自動(dòng)，連續(xù)進(jìn)行。被鍍工件加熱溫度最高可達(dá)350℃，溫度分區(qū)控制可調(diào)。
3.真空室材料采用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁采用拋光后噴漆處理。
4.真空室之間采用獨(dú)立門閥隔開，我們?cè)O(shè)計(jì)的是插板閥，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。傳動(dòng)采用磁導(dǎo)向，保障傳動(dòng)的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動(dòng)，運(yùn)行速度可調(diào)節(jié)。