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真空蒸鍍金屬薄膜是在真空條件下，將金屬蒸鍍在薄膜基材的表面而形成復合薄膜的一種新工藝。被鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中用的最多的是鋁。在塑料薄膜或紙張表面（單面或雙面）鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜，它廣泛地用來代替鋁箔復合材料如鋁箔／塑料、鋁箔／紙等使用。鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：
?。?）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～gpm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1／140～1／180，且生產(chǎn)速度可高達450m／min。
?。?）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)針孔和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。
?。?）具有極佳的金屬光澤，光反射率可達97％；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。
?。?）可采用屏蔽式進行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內(nèi)裝物。
?。?）鍍鋁層導電性能好，能消除靜電效應；其封口性能好，尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時，不會污染封口部分，保證了包裝的密封性能。
?。?）對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。
由于以上特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經(jīng)濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、農(nóng)產(chǎn)品的真空包裝，以及藥品、化妝品、香煙的包裝。另外，鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。
二、鍍膜基材
鍍鋁薄膜的基材主要是塑料薄膜和紙張。
真空蒸鍍工藝對被鍍基材有以下幾點要求：
?。?）耐熱性好，基材必須能耐受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物的冷凝潛熱。
（2）從薄膜基材上產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少；對吸濕性大的基材，在鍍膜前理。
?。?）基材應具有一定的強度和表面平滑度。
?。?）對蒸鍍層的粘接性良好；對于PP、PE等非極性材料，蒸鍍前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。
常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和紙張類。塑料薄膜基材中BOPET、BONY、BOPP三種基材形成的鍍鋁薄膜，具有極好的光澤和粘結(jié)力，是性能優(yōu)良的鍍鋁薄膜，大量用作包裝材料和印刷中的燙金材料。鍍鋁PE薄膜的光澤度較差，但成本較低，使用也較廣。以紙基材形成的鍍鋁紙，其成本比鍍鋁塑料薄膜低；比鋁箔/紙的復合材料更薄而價廉；其加工性能好，印刷中不易產(chǎn)生卷曲，不留下折痕等。因此大量取代鋁箔/紙復合材料，用作香煙、食品等內(nèi)包裝材料以及包裝商標材料等。
1.真空蒸鍍原理。將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。
通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
國內(nèi)案列企業(yè)如：宇瀚光電科技（蘇州）有限公司
專業(yè)從事于各類面板（LENS）制作，如手機面板、數(shù)碼相機視窗、PDA面板、儀表面板等。有模具開發(fā)、射出成型、表面強化處理、表面金屬蒸鍍、濺鍍、網(wǎng)版印刷、上保護膜、貼背膠等繁瑣復雜的流程。公司于2004年再投入薄膜印刷及埋入射出（IML）和平板Coating蒸鍍網(wǎng)印和CNC雕刻的各制程設(shè)備，這使得本公司的生產(chǎn)工藝手段更加完整齊全，可說是業(yè)內(nèi)制程最完整，設(shè)備最齊全的專業(yè)制造廠。
