點擊圖片查看原圖一、真空箱式爐應用領域
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點
爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達15pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。
三、真空箱式爐規(guī)格型號
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設備型號 |
HSZ-2-12 |
HSZ-6-12 |
HSZ-8-12 |
HSZ-10-12 |
HSZ-15-12 |
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最高溫度 |
1200℃ |
1200℃ |
1200℃ |
1200℃ |
1200℃ |
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控制精度 |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
±1℃ |
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爐膛尺寸（mm） |
200×150×150 （H×W×D） |
300×200×200 （H×W×D） |
300×250×250 （H×W×D） |
400×300×300 （H×W×D） |
500×400×400 （H×W×D） |
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發(fā)熱元件 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
進口電阻絲 |
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真空度 |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
66.6pa |
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冷態(tài)壓升率 |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
≦10～20pa/h |
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溫控方式 |
可控硅模塊自控 |
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